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Crecimiento de nanolaminados de HfO2/TiO2 por depósito de capas atómicas y HfO2-TiO2 por depósito parcial de capas atómicas
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Crecimiento de nanolaminados de HfO2/TiO2 por depósito de capas atómicas y HfO2-TiO2 por depósito parcial de capas atómicas
Hernandez Arriaga, Heber
URI:
https://repositorioinstitucional.uaslp.mx/xmlui/handle/i/5783
Fecha:
2017
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Ficheros en el ítem
Nombre:
Declaratoria.FC.2 ...
Tamaño:
1.246Mb
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PDF
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Nombre:
TesisD.FC.2017cre ...
Tamaño:
15.98Mb
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