Repositorio institucional

Crecimiento de nanolaminados de HfO2/TiO2 por depósito de capas atómicas y HfO2-TiO2 por depósito parcial de capas atómicas

Mostrar el registro sencillo del ítem

dc.contributor.advisor Vidal Borbolla, Miguel Ángel
dc.contributor.advisor López Luna, Edgar
dc.contributor.author Hernandez Arriaga, Heber
dc.coverage.temporal México. San Luis Potosí. San Luis Potosí es_MX
dc.date.accessioned 2020-07-22T19:51:46Z
dc.date.available 2020-07-22T19:51:46Z
dc.date.issued 2017
dc.identifier.uri https://repositorioinstitucional.uaslp.mx/xmlui/handle/i/5783
dc.description.statementofresponsibility Grupos de la comunidad es_MX
dc.description.statementofresponsibility Investigadores es_MX
dc.description.statementofresponsibility Estudiantes es_MX
dc.language Español es_MX
dc.relation.ispartofseries Facultad de Ciencias es_MX
dc.rights Acceso Abierto es_MX
dc.rights.uri http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 es_MX
dc.subject nanolaminados es_MX
dc.subject.classification CIENCIAS FÍSICO MATEMATICAS Y CIENCIAS DE LA TIERRA es_MX
dc.subject.classification INGENIERÍA Y TECNOLOGÍA es_MX
dc.title Crecimiento de nanolaminados de HfO2/TiO2 por depósito de capas atómicas y HfO2-TiO2 por depósito parcial de capas atómicas es_MX
dc.type Tesis de doctorado es_MX


Ficheros en el ítem

Este ítem aparece en la(s) siguiente(s) colección(ones)

Mostrar el registro sencillo del ítem

Acceso Abierto Excepto si se señala otra cosa, la licencia del ítem se describe como Acceso Abierto

Buscar en el repositorio


Búsqueda avanzada

Listar

Mi cuenta