Crecimiento de nanolaminados de HfO2/TiO2 por depósito de capas atómicas y HfO2-TiO2 por depósito parcial de capas atómicas

Hernandez Arriaga, Heber

dc.contributor.advisor	Vidal Borbolla, Miguel Ángel
dc.contributor.advisor	López Luna, Edgar
dc.contributor.author	Hernandez Arriaga, Heber
dc.coverage.temporal	México. San Luis Potosí. San Luis Potosí	es_MX
dc.date.accessioned	2020-07-22T19:51:46Z
dc.date.available	2020-07-22T19:51:46Z
dc.date.issued	2017
dc.identifier.uri	https://repositorioinstitucional.uaslp.mx/xmlui/handle/i/5783
dc.description.statementofresponsibility	Grupos de la comunidad	es_MX
dc.description.statementofresponsibility	Investigadores	es_MX
dc.description.statementofresponsibility	Estudiantes	es_MX
dc.language	Español	es_MX
dc.relation.ispartofseries	Facultad de Ciencias	es_MX
dc.rights	Acceso Abierto	es_MX
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0	es_MX
dc.subject	nanolaminados	es_MX
dc.subject.classification	CIENCIAS FÍSICO MATEMATICAS Y CIENCIAS DE LA TIERRA	es_MX
dc.subject.classification	INGENIERÍA Y TECNOLOGÍA	es_MX
dc.title	Crecimiento de nanolaminados de HfO2/TiO2 por depósito de capas atómicas y HfO2-TiO2 por depósito parcial de capas atómicas	es_MX
dc.type	Tesis de doctorado	es_MX