Reflectancia espectroscópica de contraste en el límite del campo cercano: caracterización estructural de películas de grafeno

Abstract

La tendencia de los dispositivos tecnológicos, de un tiempo hacia la actualidad, a la miniaturización, así como la curiosidad de la humanidad de saber más sobre las cosas que le rodean, en especial por las que a simple vista no es posible observar a detalle, ha conllevado al desarrollo y perfeccionamiento de técnicas de microscopia cada vez con una mejor resolución y una mayor capacidad de escala. Esto trae como resultado el poder distinguir y estudiar objetos a escala nanométrica, en el caso de aplicar la Microscopia de Fuerza Atómica o AFM (AFM, por sus siglas en inglés de Atomic Force Microscopy), o a escala de sublongitud de onda, para la implementación de una Microscopia Óptica de Campo Cercano o NSOM (NSOM, por sus siglas en inglés de Near-field Scanning Optical Microscopy). El presente trabajo de Tesis pretende desarrollar la Microscopia Óptica de Campo Cercano NSOM como una herramienta de Contraste de Reflectancia Diferencial o DRC (DRC, por sus siglas en inglés de Differential Reflectance Contrast) para el análisis de nuevos materiales, tales como los materiales bidimensionales o 2D. Específicamente se estudió un sistema con una estructura conformada por grafeno en un sustrato de Dióxido de Silicio/Silicio (grafeno/SiO2/Si). Demostrando que es posible utilizar NSOM para desarrollar la técnica DRC para la caracterización del grosor en la escala sub-micrométrica de materiales bidimensionales o también llamados 2D.