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Elipsometría para el estudio óptico de estructuras semiconductoras

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dc.contributor raul balderas;0000-0003-1324-172X
dc.contributor.advisor Balderas Navarro, Raúl Eduardo
dc.contributor.author Alarcón Martínez, Jorge Alfonso
dc.coverage.spatial México. San Luis Potosí. San Luis Potosí. es_MX
dc.creator JORGE ALFONSO ALARCON MARTINEZ;861334 es_MX
dc.date.accessioned 2022-10-17T18:38:52Z
dc.date.available 2022-10-17T18:38:52Z
dc.date.issued 2019
dc.identifier.uri https://repositorioinstitucional.uaslp.mx/xmlui/handle/i/7987
dc.description.abstract En el presente trabajo de tesis se describe a detalle el principio de medición de un sistema de elipsometría, partiendo de los elementos más básicos como lo son las ecuaciones de Maxwell y ondas electromagnéticas. Para esto, se considera todo el fenómeno físico involucrado en la medición de la función dieléctrica compleja y de esta manera estudiar las propiedades ópticas de estructuras semiconductoras. Con los elementos ópticos básicos que conforman un sistema de elipsometría (polarizador, analizador y compensador), se logró la implementación de un arreglo óptico capaz de realizar espectroscopía elipsométrica en el rango de luz visible-ultravioleta. Se requirieron numerosas pruebas, así como su calibración correspondiente para poder establecer el sistema de manera óptima y reproducible. Los espectros obtenidos en el sistema implementado fueron comparados con los que se obtienen con equipos comerciales de las mismas muestras y bajo las mismas condiciones de medición; esto con la finalidad de validar el presente trabajo y poder asegurar así que las mediciones rutinarias sean de buena calidad y reproducibles para futuros trabajos. Se midieron un número de muestras semiconductoras: cristales de silico, GaAs, GaSb, películas delgadas de MoS2 crecidas sobre substratos de zafiro, así como rejillas de difracción basadas en InP. es_MX
dc.description.statementofresponsibility Investigadores es_MX
dc.description.statementofresponsibility Estudiantes es_MX
dc.language Español es_MX
dc.publisher Facultad de Ciencias - UASLP
dc.relation.ispartof REPOSITORIO NACIONAL CONACYT es_MX
dc.rights Acceso Abierto es_MX
dc.rights.uri http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 es_MX
dc.subject elipsometría es_MX
dc.subject.other CIENCIAS FÍSICO MATEMATICAS Y CIENCIAS DE LA TIERRA es_MX
dc.subject.other INGENIERÍA Y TECNOLOGÍA es_MX
dc.title Elipsometría para el estudio óptico de estructuras semiconductoras es_MX
dc.type Tesis de Maestría es_MX
dc.degree.name Maestría en Ciencias Aplicadas es_MX
dc.degree.department Facultad de Ciencias es_MX


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